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华兆科技丨物理气相沉积（PVD）技术原理
激光脉冲沉积 (PLD)原理：使用高功率脉冲激光束（如准分子激光）聚焦后轰击靶材表面，使其材料瞬间烧蚀并产生由离子、原子和电子组成的等离子体羽辉。该等离子体羽辉定向膨胀并沉积在对面的基片上。
2026-05-19来源: 华兆Huazhao -
华兆科技丨NCE-200R原子层沉积（ALD）系统解决方案
• 沉积速率：单循时间≤5秒或50 nm氧化铝沉积时间不超过30分钟。• 三甲基铝及水的脉冲时间不超过100毫秒。
2026-05-19来源: 华兆Huazhao -
【聚焦激光】调 Q 纳秒脉冲激光器：紧凑、高能、双脉冲全解析
2025-06-23来源: TEO先锋科技 -
全二维面探残余应力分析仪在激光沉积领域全新应用进展
发现PLD工艺包括连续脉冲激光沉积（CPLD）和间隔脉冲激光沉积（IPLD）比CLD工艺能更有效地改善温度和残余应力的均匀性。该研究有望用于多层沉积零件的变形控制和微观结构一致性。
2022-10-25来源: QuantumDesign -
华兆科技丨薄膜沉积技术原理及设备
同时，通过精确控制等离子体能量和分布（远程等离子体、脉冲等离子体），实现更低损伤的薄膜沉积。05主要设备厂商国际厂商1.
2026-05-19来源: 华兆Huazhao -
【聚焦激光】Quantel 双脉冲纳秒脉冲激光器详解~
本期为大家带来Lumibird旗下品牌Quantel产品——双脉冲纳秒脉冲激光器，想了解更多Lumibird集团激光产品及应用，可关注4月13日光电课堂网络专题直播课。
2023-04-21来源: TEO先锋科技 -
华兆科技丨NANO-MASTER化学气相沉积（CVD）系统解决方案
系统还配备了RF或脉冲DC偏压样品台，通过调节偏压可以控制离子对基片表面的轰击能量，从而改善薄膜的阶梯覆盖性和致密性。这使得即使在复杂三维结构表面也能实现纳米级均匀的薄膜沉积。
2026-05-19来源: 华兆Huazhao -
这个新型高输出功率PLD 阵列，可耐105℃高温！
2019-02-23来源: 滨松 -
超短激光脉冲测量设备介绍
超短激光脉冲通常是指脉冲宽度在阿秒量级（10^-18s）和飞秒量级（10^-15s）以及皮秒量级(10^-12s)的激光脉冲。
2025-10-14来源: 上海昊量光电设备有限公司 -
ISOLUTE® PLD+ 蛋白和磷脂去除板
2019-02-23来源: Biotage
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